Compatível com chips de 7,2 mm a 82 mm 
Distância de trabalho alta/baixa 
Lente telecêntrica de abertura 
Lente de medição 
Suporte máximo para chips de 1,1". 
Suporte máximo para chips de 1,2". 
Suporte máximo para chips de 2/3". 
Longa distância de trabalho 
Lente varifocal com montagem CS 
Lente varifocal plana 
Lente com montagem S 
Luz circular 
Luz UV/IR 
Luz de bar 
Luz arqueada de alta uniformidade 
Luz de fundo 
Luz plana 
Luz colimada 
Luz coaxial 
Holofote 
Luz de cúpula 
Luz coaxial colimada 
Luz quadrada sem sombras 
Luz de varredura 
Luz AOI 
Controlador analógico 
Guia linear de rolos cruzados 
Série Rotary Stages XRS 
Estágios de translação linear com rolamentos de esferas de aço inoxidável 
Estágios de translação multi-eixos 
estágios de rolamento de esferas de barra de aço 
Estágio de posicionamento tipo cremalheira e pinhão com encaixe em cauda de andorinha 
Deslizador de parafuso de alta precisão com ranhura em cauda de andorinha 
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- Lente telecêntrica
- Lente de câmera de segurança
- Fonte de luz industrial
- Estágios e Slides Manuais
- Guia linear de rolos cruzados
- Estágios rotativos: Série XRS
- Estágios rotativos de alta precisão: série XRSP
- Estágios de translação linear com rolamentos de esferas em aço inoxidável: Série XLB
- Estágios de translação multi-eixos
- Estágios de rolamento de esferas de barra de aço: Série XLG
- Estágio de posicionamento tipo cremalheira e pinhão com encaixe em cauda de andorinha
- guia de parafuso de alta precisão com ranhura em cauda de andorinha
0102030405
Mesa deslizante manual de direção móvel XZ da série XLEV com combinação multieixos
Os eixos X (horizontal) e Z (vertical) oferecem dois graus de liberdade, permitindo uma operação manual precisa e flexível tanto no plano horizontal quanto no vertical. Isso torna o equipamento perfeitamente adequado para cenários exigentes, como pesquisa e desenvolvimento em laboratório, alinhamento óptico, montagem de precisão e inspeção de amostras.
Compacto, porém notavelmente capaz, suporta com segurança cargas que variam de 19,2 N (2 kgf) a 58,8 N (6 kgf), atendendo às necessidades de montagem e ajuste da maioria dos dispositivos, sensores e lentes ópticas de pequeno a médio porte. Seu movimento suave e excepcional precisão de posicionamento, com uma graduação mínima de 0,01 mm, garantem que cada ajuste fino seja executado com precisão.
Parâmetros de estágios e slides manuais
| Modelo | Tipo de movimento | Material | Tipo de acionamento | Tamanho da superfície | Viagem | Capacidade de carga | Valor mínimo da escala | Peso | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| MAIS+MENOS- | XLEV40-L-C2 | XZ | Liga de alumínio (ânodo preto) | Cabeça do micrômetro | 40 mm x 40 mm | X: ±6,5 mm Z: ±6,5 mm | 19,2 N (2 kgf) | 0,01 mm | 0,36 kg |
| MAIS+MENOS- | XLEV50-L-C2 | XZ | Liga de alumínio (ânodo preto) | Cabeça do micrômetro | 50 mm x 50 mm | X: ±6,5 mm Z: ±6,5 mm | 29,4 N (3 kgf) | 0,01 mm | 0,52 kg |
| MAIS+MENOS- | XLEV60-L-C2 | XZ | Liga de alumínio (ânodo preto) | Cabeça do micrômetro | 60 mm x 60 mm | X: ±6,5 mm Z: ±6,5 mm | 39,2 N (4 kgf) | 0,01 mm | 0,69 kg |
| MAIS+MENOS- | XLEV90-L-C2 | XZ | Liga de alumínio (ânodo preto) | Cabeça do micrômetro | 90 mm x 90 mm | X: ±12,5 mm Z: ±6,5 mm | 58,8 N (6 kgf) | 0,01 mm | 1,35 kg |
